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红胶清洗_水基清洗剂W1000_超声波清洗红胶-合明科技

   日期:2022-02-28     来源:合明科技官网    作者:合明科技    浏览:2    评论:0    
核心提示:清洗剂_洗板水_水基清洗剂_电路板清洗_半导体清洗_治具清洗_芯片清洗_助焊剂_助焊剂清洗_锡膏清洗_合明科技专注精密电子清洗技术20多年,是SMT贴装/DIP封装,功率半导体器件及芯片封装精密清洗工艺技术方案、产品、清洗设备提供商。精密电子清洗除焊后助焊剂、锡膏、焊膏、球焊膏、焊锡膏、锡渣等残留物。水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封装到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳. 先进封装包括倒装芯片、WLCSP晶圆
 红胶清洗_水基清洗剂W1000_超声波清洗红胶-合明科技

清洗剂_洗板水_水基清洗剂_电路板清洗_半导体清洗_治具清洗_芯片清洗_助焊剂_助焊剂清洗_锡膏清洗_合明科技专注精密电子清洗技术20多年,是SMT贴装/DIP封装,功率半导体器件及芯片封装精密清洗工艺技术方案、产品、清洗设备提供商。精密电子清洗除焊后助焊剂、锡膏、焊膏、球焊膏、焊锡膏、锡渣等残留物。水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封装到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳. 先进封装包括倒装芯片、WLCSP晶圆级芯片封装、3D IC集成电路封装、SiP系统级封装、细间距封装等等。

5G时代的到来,各类电子产品组件越来越微小化,元件焊盘之间间隙也在缩小,如何确保能达到**的回流焊接,SMT锡膏印刷工艺是其中关键的一个环节,大家都知道,在SMT锡膏印刷中,有三个重要部分:焊膏、钢网模板和印刷设备,如能正确选择,方可获得良好的印刷效果。
所以,对于清洗红胶网板来说,选择产品和设备至关重要。一是选择一款对红胶有比较好溶解力的水基清洗剂;二是要选择利用超声波的物理力使得红胶地分散和溶解以达到完成清洗的效果。
红胶塑网清洗检测标准
所以采用人工与气动喷淋清洗设备,配套的清洗方式,需要人工反复吹洗、针通,此清洗方式耗时、费力、效果差。加上的挥发,容易被现场作业工人吸入身体,长此以往,对现场作业人员的身体造成比较大的损害,易燃易爆隐患*是个定时“”,故红胶网板清洗是目前行业内普通的技术难题。
红胶塑网清洗检测标准
红胶网板清洗技术的清洗原理是:利用超声波的物理“空化效应”在清洗液中产生数以万计的微小气泡,这种微小气泡的形成、生长及破裂,使物体表面、缝隙及深孔、细孔、盲孔中的附着物污垢剥落机械去除,配合W1000水基清洗剂的溶解力对红胶进行化学溶解使红胶成分中的环氧树脂和硬化剂、颜料、填充料等溶解于清洗剂,而清洗剂在超声波设备中循环过滤使用,从而达到**清洗的效果。
红胶塑网清洗检测标准
【问】红胶厚网工艺通孔不完整、不流畅,清洗不干净问题
【答】厚网红胶工艺中,波峰焊掉件往往跟胶量不足有关,和偏位有关。
厚孔的完整性和流畅度都会影响红胶通过通孔而漏胶的多少,这样从而影响漏胶量的大小。
通常,厚孔的完整和流畅,又跟厚网的清洗由密切的关系,红胶厚网的清洗是行业里面多年沉积下来的**难问题,也是一个很难解决的问题,合明科技的钢网清洗机配上水基清洗剂能够完整地、不需要任何人工,将红胶厚网清洗干净,而保障红胶厚网的完整性。系统性解决了在红胶厚网工艺中波峰焊掉件漏件的问题。从而提升这个生产线的率和工艺质量。
安全、环保、全自动的清洗,胜艺制程清洗的必然方向,也是必经之路,以上仅供参考。
欢迎来电咨询合明科技,环保水基清洗剂、电子清洗剂、电子水基清洗剂、SMT锡膏印刷机底部擦拭水基清洗剂、锡膏钢网水基清洗剂、红胶网板水基清洗剂、PCBA电路板水基清洗剂、PCBA线路板水基清洗剂、SMT回流焊炉膛设备保养水基清洗剂、SMT焊接治具水基清洗剂、油墨丝印网板水基清洗剂、水基清洗环保清洗机、治具清洗机、喷淋清洗机、油墨丝印网板清洗机、超声波钢网清洗机、电子制程水基清洗整体解决方案!

针对电子制程精密焊后清洗的不同要求,合明科技在水基清洗方面有比较丰富的经验,对于有着低表面张力、低离子残留、配合不同清洗工艺使用的情况,自主开发了较为完整的水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳,兼容的材料更为广泛;在同等的兼容性下,合明科技的清洗剂清洗的锡膏种类更多(测试过的锡膏品种有ALPHA、SMIC、INDIUM、SUPER-FLEX、URA、TONGFANG、JISSYU、HANDA、OFT、WTO等品牌;测试过的焊料合金包括SAC305、SAC307、6337、925等不同成分),清洗速度更快,离子残留低、干净度更好。

 

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