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环保清洗IGBT技术合明科技半导体封装清洗剂水基型W3200

   日期:2021-12-15     来源:合明科技官网    作者:合明科技    浏览:2    
核心提示:水基清洗剂,环保清洗剂,电路板清洗,助焊剂清洗剂,半导体清洗,丝网清洗,红胶清洗,治具清洗,功率器件清洗,电路板清洗剂_免洗助焊剂清洗剂合明科技专注精密电子清洗技术20多年,是SMT贴装/DIP封装,功率半导体器件及芯片封装精密清洗工艺技术方案、产品、清洗设备提供商。精密电子清洗除焊后助焊剂、锡膏、焊膏、球焊膏、焊锡膏、锡渣等残留物。水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。
 环保清洗IGBT技术 合明科技 半导体封装清洗剂水基型W3200 清洗回流焊后助焊剂锡膏残留物

水基清洗剂,环保清洗剂,电路板清洗,助焊剂清洗剂,半导体清洗,丝网清洗,红胶清洗,治具清洗,功率器件清洗,电路板清洗剂_免洗助焊剂清洗剂合明科技专注精密电子清洗技术20多年,是SMT贴装/DIP封装,功率半导体器件及芯片封装精密清洗工艺技术方案、产品、清洗设备提供商。精密电子清洗除焊后助焊剂、锡膏、焊膏、球焊膏、焊锡膏、锡渣等残留物。水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。

 

现今电子产品清洗追求清洗过程中生产、表面无损伤、节省溶剂、工作场地和人工成本;超声波清洗就有清洗速度、工效高,大大降低清洗作业的人力劳动强度的特点,特别是大批量的小制件(或元器件),尤其适用于超声波清洗,超声波清洗机的应用便于清洗工艺的实施及工艺过程的连续自动化,设备体积小,重量轻,功率可调,且可频率跟踪,操作灵活方面等优点已被广泛应用。但针对超声波清洗过程中的变量该如何选择和控制呢?
选择超声波的优点
 在良好的清洗剂搭配下声清洗效果好,清洁度高且全部工件清洁度一致,声清洗速度,提高生产效率,不须人手接触清洗液,安全可靠。 对小间隙、狭缝、细微隐蔽处、深孔的产品亦可清洗干净。通过超声波来清洗产品可以有效降低环境污染,同时减少有毒溶剂对员工的损害,而且的超声波清洗设备内置有一套的循环过滤系统,使用过的清洗溶剂能够通过过滤系统进性过滤后达到反复使用的目的,因此能够充分节约水资源和清洗溶剂,能够降低企业的清洗成本,同时还能够提高企业在环保方面的形象。
文昌环保清洗IGBT技术
清洗剂在通过式清洗工艺中的性能稳定性,需要有相应的技术手段来进行监测和管控,以保证清洗性能的发挥或材料兼容性的稳定。在这些监测数据中,重要的是清洗剂的使用浓度可控范围之内,建议使用喷淋通过机的用户装配清洗剂浓度监测装置,以监测清洗剂在使用中的浓度变化。因为喷淋机的设备特性,在使用运行中,清洗剂的浓度变化比较大,如不能有效的清洗剂的浓度,将会产生材料兼容性方面的风险。一般来说,清洗剂在机内运行,随着时间的关系,浓度会升高,常规需要通过添加DI水来保证清洗剂的浓度稳定。使用浓度检测仪,可使用人工添加水和自动添加水的方式进行浓度控制。
文昌环保清洗IGBT技术
清洗干净度的评价和评估。往往采取两个方式。一,裸眼经40~100倍的显微放大观察清洗物表面残余物的状况,以见不到残余物为评判依据。二,使用表面离子污染度检测方式对被清洗物表面进行检测,以检测的数据比照技术指标要求评价。在实际生产应用中,特别关注低托高,micro gap。
比如说在器件底部,包括Chip件、QFN底部,芯片或者是倒装芯片底部残留物的去除状况。往往当这些底部的残余物能够有效去除,那么其他部位的残余物也应可以评判为去除。QFM和芯片底部必须采用机械方式打开,观测底部残留物的状况来评判干净度,为了达到Micro gap的托高底部的残留物清除,清洗剂物理化学特性(比方说表面张力)和清洗设备喷淋的角度、压力、方向以及喷淋的时间温度都对底部清除污垢有很大的影响度。
文昌环保清洗IGBT技术
清洗液温度的选择
 根据客户的需求选择适用合适温度的清洗剂。选用的清洗剂不同使用的温度也不尽相同;一般水基清洗剂使用适宜的清洗温度为50-60℃左右,温度高超声波清洗的、效果好。
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针对电子制程精密焊后清洗的不同要求,合明科技在水基清洗方面有比较丰富的经验,对于有着低表面张力、低离子残留、配合不同清洗工艺使用的情况,自主开发了较为完整的水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳,兼容的材料更为广泛;在同等的兼容性下,合明科技的清洗剂清洗的锡膏种类更多(测试过的锡膏品种有ALPHA、SMIC、INDIUM、SUPER-FLEX、URA、TONGFANG、JISSYU、HANDA、OFT、WTO等品牌;测试过的焊料合金包括SAC305、SAC307、6337、925等不同成分),清洗速度更快,离子残留低、干净度更好。

 

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