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锡膏网板清洗机_超声波网板清洗设备HM838_合明科技
2022-02-28  浏览:2
 锡膏网板清洗机_超声波网板清洗设备HM838_合明科技

清洗剂_洗板水_水基清洗剂_电路板清洗_半导体清洗_治具清洗_芯片清洗_助焊剂_助焊剂清洗_锡膏清洗_合明科技专注精密电子清洗技术20多年,是SMT贴装/DIP封装,功率半导体器件及芯片封装精密清洗工艺技术方案、产品、清洗设备提供商。精密电子清洗除焊后助焊剂、锡膏、焊膏、球焊膏、焊锡膏、锡渣等残留物。水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封装到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳. 先进封装包括倒装芯片、WLCSP晶圆级芯片封装、3D IC集成电路封装、SiP系统级封装、细间距封装等等。

使用水基清洗剂进行SMT钢网的清洗,**要选用中性的水基清洗剂,并配备清洗、漂洗、干燥的完整工艺流程,才能完整实现水基清洗剂的清洗效果。因为水基清洗机中的许多成分沸程从70~80度到200多度,甚至达到400度,从原理上来说是不能在自然环境中实现干燥,虽然有部分清洗机具备干燥功能,使用一定的热风条件,也不可能使200度沸程的清洗剂成分得以有效的挥发,所以要去除这部分溶剂在钢网上的影响而提升钢网干净度,必须运用清水漂洗的流程,将这部分溶剂用纯净水替换出来,保证钢网上的溶剂残留降低到少,终干燥只是将漂洗水的水进行干燥而得到干净干燥的钢网。漂洗功能还有另外一项作用,可将钢网上绷网胶缝隙中清洗剂溶剂残留通过漂洗的方式而清除干净,避免溶剂对绷网胶的影响,提高钢网的使用寿命。
合明科技水基钢网清洗应用,用合明科技水基清洗剂搭配合明科技自主研发的水基钢网清洗机,能实现钢网的清洗、漂洗、干燥为一体的全自动无需人工的操作,从而实现了水基的完整清洗工艺。不仅可以将钢网的残留物清洗干净,而且能够在运行过程中,控制水基清洗剂的消耗,降低清洗成本,仅仅消耗了从清洗槽到漂洗槽钢网本身的带离液损失,并且水基清洗剂可以反复使用,*大节约了清洗剂使用量。避免了原来清洗机的同个腔体同个槽体进行清洗、漂洗作业的这种配置,因为清洗机本身的缺陷而造成清洗剂会以漂洗水相互之间双向交叉窜液污染和稀释,这样不仅降低了清洗剂的使用寿命(造成清洗次数减少、清洗力下降)和同时也容易造成漂洗水的污染从而加大漂洗干净度的难度。
柳州SMT钢网清洗机
许多厂商现有的钢网清洗设备往往是传统的气动喷淋机,使用型清洗剂或酒精进行钢网的清洗,此法解决了原来人工清洗可靠性不高,清洗干净度没有保障的难题。自动清洗的方式实现了钢网的连续完整的清洗,但是随着环保,安全等要求的提升,用溶剂型清洗剂清洗钢网的方式在逐渐的改变和变化,使用环保水基清洗剂配合清洗机进行钢网清洗成为SMT印刷钢网清洗的方向和趋势。
柳州SMT钢网清洗机
半水基清洗剂
半水基清洗剂也叫准水基清洗剂,是由高沸点溶剂及活性剂等组成,如醇类、有机烃类等。它的清洗原理是剥离而不是溶解。半水洗通常清洗效果很好,但运行成本较高,废液不能再生回收,含COD(化学耗氧量)较高,需要进行废水处理。
柳州SMT钢网清洗机
清洁的目的是去除零件表面的外来杂质,以避免对产品的性能和外观上造成不利影响。如清洁丝网和钢网是为保持其状态以方便再次使用。
所需的清洁程度可能会因产品类型和性能需求有所不同,如丝网和钢常清洗到“视觉清洁”的状态,部件清洁必须能够消除可见与不可见的污染物,如离子化的材料及可能会干扰润湿性和粘合性的残留物。对于电子组装件,“视觉清洁”的外观可能会达到令人满意的外观标准,但确保产品性能方面可能不会令人满意。因此,通常采用半定量和定量测试,以确认清洗过程中的目标得到满足,在清洁中“性能设置要求”是shou要目标,其他目标也必须设定和实现。清洗过程中不得损坏已清洁的部分,清洗必须在实际和符合成本效益方面能够完成。应用的清洗工艺也必须是安全的以及环境的相容性。
无论使用何种工艺和设备配置,都应将水基清洗剂本身的溶剂残留进行清除,同时也将锡粉残留用相应的规范指标来进行约定,才能全面的判定SMT印刷钢网的清洗干净度。

针对电子制程精密焊后清洗的不同要求,合明科技在水基清洗方面有比较丰富的经验,对于有着低表面张力、低离子残留、配合不同清洗工艺使用的情况,自主开发了较为完整的水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳,兼容的材料更为广泛;在同等的兼容性下,合明科技的清洗剂清洗的锡膏种类更多(测试过的锡膏品种有ALPHA、SMIC、INDIUM、SUPER-FLEX、URA、TONGFANG、JISSYU、HANDA、OFT、WTO等品牌;测试过的焊料合金包括SAC305、SAC307、6337、925等不同成分),清洗速度更快,离子残留低、干净度更好。

 

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